آخر الأخبار

آبل تسجل براءة اختراع جديدة تكشف عن تصميم جديد للآيفون بدون نوتش علوي

جدول الموضوع

تصميم جديد للآيفون بدون نوتش علوي

نوتش

iphone x notch e1512853378138 - آبل تسجل براءة اختراع جديدة تكشف عن تصميم جديد للآيفون بدون نوتش علوي

مؤخرًا اتجهت شركات تصنيع الجوالات الذكية إلى تقليل الحواف وجعل الشاشة تملء واجهة الجوال وغيرها.

وقد بدأت آبل هذه الثورة بالكشف عن النوتش بآيفون X العام الماضي لتبدأ اتجاه جديد في تصغير حواف الشاشة العليا بقدر الإمكان.

ولكن كان للنوتش مشكلاته فقد تسبب في قطع المحتوى المعروض وعدم تناسق شكل الهاتف جعله منبوذا لدى البعض.

وهذا الأمر دفع مصنعين آخرين إلى محاولة استبدال النوتش بتصميم آخر بكاميرا منزلقة مثل أوبو فايند X.

وبعدها قامت سامسونج بتأكيد تطويرها لشاشة تختفي فيها الكاميرا الامامية تمامًا حتى لا تعتمد على النوتش.

والآن آبل تنضم إلى السباق ببراءة اختراع جديدة مسجلى باسمها تصف حلول الشركة للتخلص من النوتش في جوالات آيفون المستقبلية.

ومن وصف براءة الاختراع فإن الشركة تفكر في تصنيع شاشة بها ثقوب دقيقة توضع فيها الكاميرا الأمامية ومستشعرات Face ID.

وذلك بدلا من وضع الكاميرا والمستشعرات في نوتش كبير.

ومن أجل تنفيذ هذا التصميم سيستخدم ثقاب على الشاشة لإحداث ثقب على شكل حلقة، ثم تزال الحلقة لتفسح مجال للمستشعرات.

وأثناء استخدام المثقاب، سيتم حماية المنطقة المحددة بمواد تشبه الوسادة من أجل تجنب إتلاف الشاشة.

ومن المحتمل منطقيًا أن يكون هذا التصميم هو الخطوة التالية بعد النوتش، لكن آبل قد تلغيه كليا وذلك للسبب التالي:

“أنها من الممكن أن تستفيد من تطوير سامسونج لشاشة يمكن تضمين الكاميرا والمستشعرات بها”.

صور براءة الاختراع:

Apple display holes patent 1 - آبل تسجل براءة اختراع جديدة تكشف عن تصميم جديد للآيفون بدون نوتش علوي Apple display holes patent - آبل تسجل براءة اختراع جديدة تكشف عن تصميم جديد للآيفون بدون نوتش علوي

اقرأ أيضاً: براءة اختراع جديدة تسجلها شركة آبل تكشف عن تصميم الجوال القابل للطي المستقبلي لها

SeparatorNet - آبل تسجل براءة اختراع جديدة تكشف عن تصميم جديد للآيفون بدون نوتش علوي

شاركنا برأيك

زر الذهاب إلى الأعلى
%d مدونون معجبون بهذه: